РНФ № 21-72-20108

Грант РНФ № 21-72-20108

Упругое и неупругое рассеяние рентгеновского излучения на наноструктурированных неоднородностях пленок и «инженерия» интерфейсов в многослойных рентгеновских зеркалах.

Общие данные о проекте:

• Руководитель проекта Чхало Николай Иванович
• Исполнитель: Институт физики микроструктур РАН – филиал ФГБНУ «Федеральный исследовательский центр Институт прикладной физики РАН»
• Проект выполняется с привлечением Центра коллективного пользования Курчатовского источника синхротронного излучения
• Срок проекта: 2021-2024 гг.
• Объем финансирования проекта: 6000 тыс. руб. в год

В рамках проекта предполагается получить следующие результаты:

1. Изучено влияние пассивирующего газа (водород, азот) на коэффициент отражения и внутреннюю структуру зеркал Mo/Si, Be/Al, Be/Si/Al, Al/Sc, Al/Si/Sc, Cr/Be, W/Be, Cr/Sc
2. Методами рентгеновской рефлектометрии и малоуглового рассеяния изучено внутреннее строение образцов по глубине. Определены параметры шероховатостей и внутрислоевых дефектов МИС
3. Изучен стресс многослойных зеркал. Установлена корреляция между стрессами в пленках, измеренных по данным микроструктурных исследований, стрессом, индуцированным в области интерфейса и суммарным стрессом
4. Микроструктура пленок и интерфейсов МИС исследована методами высокоразрешающей рентгеновской дифракции и Рамановской спектроскопии. Сделан вывод о фазовом состоянии слоёв МИС
5. Методом XSW+рентгеновская флуоресценция/PES установлено распределение вещества в приинтерфейсных областях МИС
6. Методом фотоэмиссионной спектроскопии получены дисперсионные зависимости возбуждения плазмонов в зависимости от толщин слоёв МИС
7. Разработан компактный высокоразрешающий спектрометр для анализа вторичного EUV излучения
8. Исследовано резонансное неупругое рассеяние в образцах МИС. Сделан вывод о наличии и характере резонансов в структуре
9. Исследовано влияние комптоновского рассеяния на коэффициенты отражения и индикатрису рассеяния МИС в области жесткого рентгеновского излучения