Главная

Пресса о нас

Пресса о нас
03.jpg
Новый шаг на пути создания архитектуры промышленного рентгеновского литографа

Новый шаг на пути создания архитектуры промышленного рентгеновского литографа

В Институте физики микроструктур РАН – филиале Института прикладной физики им. А.В. Гапонова-Грехова (ИПФ РАН) создан уникальный стенд, который является прототипом лазерно-плазменного источника рентгеновского литографа нового поколения на длину волны 11,2 нм.